光學(xué)平臺(tái)產(chǎn)品及廠家

URE-2000/600 紫外單面光刻機(jī)
ure-2000/600 紫外單面光刻機(jī)，光束口徑： 650mm×650mm，對(duì)準(zhǔn)精度： ±1.5μm
更新時(shí)間:2026-01-07
無掩膜單面光刻機(jī)
ds-2000/14k 無掩膜單面光刻機(jī)，采用 dmd 作為數(shù)字掩模，像素?cái)?shù) 1024×768，采用 14 倍縮小投影光刻物鏡成像。
更新時(shí)間:2026-01-07
型無掩模單面光刻機(jī)
ds-2000/14g 型無掩模單面光刻機(jī),采用 dmd 作為數(shù)字掩模，像素?cái)?shù) 1024×768 或 1920×1080 或 25601600 三種選配,采用縮小投影光刻物鏡成像，分辨力 1um。
更新時(shí)間:2026-01-07
紫外單面光刻機(jī)
ure-2000/35a 型紫外單面光刻機(jī),,非常適合工廠（效率高，操作傻瓜型，全自動(dòng)）和高校教學(xué)科研（可靠性好，演示方便）采用自動(dòng)找平，具備真空接觸曝光、硬接觸曝、壓力接觸曝以及接近式曝光四種功能，自動(dòng)分離對(duì)準(zhǔn)間隙和消除曝光間隙，采用 350w 進(jìn)口（德國(guó)）直流汞燈，可調(diào)節(jié)光的能量密度。設(shè)備外形美觀精制，性能非常可靠，自動(dòng)化程度很高，操作十分方便。
更新時(shí)間:2026-01-07
紫外單面光刻機(jī)
ure-2000/35 型紫外單面光刻機(jī),非常適合工廠（效率高，操作傻瓜型，自動(dòng)化程度高）和高校教學(xué)科研（可靠性好，演示方便）采用自動(dòng)找平，具備真空接觸曝光、硬接觸曝、壓力接觸曝以及接近式曝光四種功能，自動(dòng)分離對(duì)準(zhǔn)間隙和消除曝光間隙，采用 350w 進(jìn)口（德國(guó)）直流汞燈，可調(diào)節(jié)光的能量密度。設(shè)備外形美觀精制，性能非常可靠，自動(dòng)化程度很高，操作十分方便。
更新時(shí)間:2026-01-07
紫外單面光刻機(jī)
ure-2000/35l 型紫外單面光刻機(jī),曝光面積：100mm×100mm；分辨力：1.0 μm（膠厚 2.0 μm 的正膠，365nm 波長(zhǎng)）
更新時(shí)間:2026-01-07
型紫外單面光刻機(jī)（臺(tái)式）
ure-2000/17 型紫外單面光刻機(jī)（臺(tái)式）,曝光面積：4 英寸,分辨力：1.5μm（膠厚 2 m 的正膠）,對(duì)準(zhǔn)精度：±1μm
更新時(shí)間:2026-01-07
法國(guó)Annealsys 高溫退火爐
法國(guó)annealsys 高溫退火爐as-one, 多用途快速熱處理設(shè)備，適用于硅，化合物半導(dǎo)體，太陽(yáng)能電池& mems.
更新時(shí)間:2026-01-07
德國(guó)MBE-Komponenten 分子束外延系統(tǒng)
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-19f,寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.03~0.13um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。octoplus 400 是一款通用型mbe系統(tǒng)，非常適合于iii/v族， ii/vi族，及其他復(fù)合半導(dǎo)體材料應(yīng)用。兼容2-4英寸標(biāo)準(zhǔn)晶片。豎直分割式腔體設(shè)計(jì)，可以裝配各種源爐，實(shí)現(xiàn)不同材料分子束外延生長(zhǎng)。
更新時(shí)間:2026-01-07
德國(guó)UnitemP真空快速退火爐
德國(guó)unitemp真空快速退火爐rtp-150, 單晶圓，150mm，快升溫速率可達(dá)150k/s
更新時(shí)間:2026-01-07
奧地利EVG紫外納米壓印系統(tǒng)
evg的hercules nil 300 mm是一個(gè)完全集成的納米壓印系統(tǒng)，是evg的nil產(chǎn)品組合的新成員。 hercules nil基于模塊化平臺(tái)，在單個(gè)平臺(tái)上將清洗模塊，抗蝕劑涂層模塊和烘烤預(yù)處理模塊與evg的有smartnil大面積納米壓印（nil）模塊結(jié)合在一起，用于直徑大為300 mm的晶片。
更新時(shí)間:2026-01-07
奧地利EVG紫外納米壓印系統(tǒng)
evg720紫外納米壓印用于從印章到襯底的紫外圖形轉(zhuǎn)移。evg720自動(dòng)納米壓印系統(tǒng)允許襯底和印章的尺寸從很小的芯片到150mm直徑的圓片范圍。
更新時(shí)間:2026-01-07
美國(guó) Lakeshore 振動(dòng)樣品磁強(qiáng)計(jì)
美國(guó) lakeshore 振動(dòng)樣品磁強(qiáng)計(jì) 8600系列：model 8604, model 8607, 更科學(xué)，更高效
更新時(shí)間:2026-01-07
德國(guó)YXLON 定制化的標(biāo)準(zhǔn)X射線檢測(cè)系統(tǒng)
德國(guó)yxlon 定制化的標(biāo)準(zhǔn)x射線檢測(cè)系統(tǒng)cheetah evo，為封裝檢測(cè)、半導(dǎo)體及實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用量身定制、
更新時(shí)間:2026-01-07
德國(guó)YXLON 定制化的緊湊型標(biāo)準(zhǔn)X射線檢測(cè)系統(tǒng)
德國(guó)yxlon 定制化的緊湊型標(biāo)準(zhǔn)x射線檢測(cè)系統(tǒng)cougar evo ，為封裝檢測(cè)、半導(dǎo)體及實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用量身定制
更新時(shí)間:2026-01-07
韓ECOPIA變溫光霍爾效應(yīng)測(cè)試儀
韓ecopia 變溫光霍爾效應(yīng)測(cè)試儀 hms-7000，可以通過改變照射在樣品上的不同波長(zhǎng)范圍的光源（紅、綠、藍(lán)光源）， 得出載流子濃度、遷移率、電阻率及霍爾系數(shù)等半導(dǎo)體電學(xué)重要參數(shù)隨光源強(qiáng)度變化的曲線。
更新時(shí)間:2026-01-07
日本RION光遮蔽粒子計(jì)數(shù)器
日本rion光遮蔽粒子計(jì)數(shù)器 kl-05,（光滲透法），可測(cè)試粒徑范圍：1~20個(gè)通道范圍，1.3μm~100（0.1μm的間隔）大粒子數(shù)濃度：10 000 顆/l （誤差值低于10%）
更新時(shí)間:2026-01-07
日本RION液體光學(xué)顆粒度儀
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀：ks-93( 光散射法），大粒子數(shù)濃度：30 000 顆/l （誤差值低于5%），粒徑范圍（5個(gè)通道）：≥0.1μm， ≥0.15μm ， ≥0.2μm ， ≥0.3μm, ≥0.5μm， ≥25μm
更新時(shí)間:2026-01-07
日本RION粒子計(jì)數(shù)器
日本rion粒子計(jì)數(shù)器：kc-22a ( 光散射法）,大粒子數(shù)濃度：10000顆/l （誤差值低于5%）,可檢測(cè)從純水到氫氟酸各種各樣的液體。
更新時(shí)間:2026-01-07
日本RION粒子計(jì)數(shù)器
日本rion粒子計(jì)數(shù)器：kc-22b ( 光散射法）,液體粒子計(jì)數(shù)器，可檢測(cè)從純水到氫氟酸各種各樣的液體。
更新時(shí)間:2026-01-07
日本RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器kc-31 ( 光散射法）,測(cè)試粒徑（6個(gè)通道）,大粒子數(shù)濃度：28000000 顆/l
更新時(shí)間:2026-01-07
日本RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器：kc-32 ( 光散射法）測(cè)試粒徑（6個(gè)通道）：≥0.3μm， ≥0.5μm ， ≥1μm ， ≥2μm， ≥5μm, ≥10μm
更新時(shí)間:2026-01-07
日本RION氣體粒子計(jì)數(shù)器
日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器：kc-20a ( 光散射法）,測(cè)試粒徑（5個(gè)通道）：≥10μm， ≥20μm ， ≥30μm ， ≥50μm， ≥100μm
更新時(shí)間:2026-01-07
英國(guó)HHV 科研工作者和電子顯微學(xué)家的多功能鍍膜設(shè)備
英國(guó)hhv auto 306 科研工作者和電子顯微學(xué)家的多功能鍍膜設(shè)備，是一種多功能的緊湊型鍍膜設(shè)備，設(shè)計(jì)用于滿足科研工作者和電子顯微學(xué)家的需求。auto306可配備各種真空系統(tǒng)、真空腔室和標(biāo)準(zhǔn)化工藝附件，提供一系列實(shí)驗(yàn)技術(shù)以滿足現(xiàn)代化實(shí)驗(yàn)室的需要。
更新時(shí)間:2026-01-07
英國(guó)HHV適合先進(jìn)研發(fā)和試生產(chǎn)的全功能系統(tǒng)
tf500/tf600 適合先進(jìn)研發(fā)和試生產(chǎn)的全功能系統(tǒng)，系統(tǒng)配置可選擇多種腔室尺寸和工藝附件，以精確的符合用戶需求。這兩個(gè)型號(hào)的系統(tǒng)都可以安裝多個(gè)鍍膜源，也都支持離子束處理選項(xiàng)。有一系列預(yù)進(jìn)樣室（load lock）和樣品操縱裝置可供選擇，以提高真空鍍膜效率。
更新時(shí)間:2026-01-07
德國(guó) PVA TePla 等離子去膠機(jī)
ion 100wb-40q 德國(guó) pva tepla 等離子去膠機(jī)，最新推出的具有高性價(jià)比的真空等離子去膠設(shè)備，配備了一個(gè)圓筒石英腔，特別適用于半導(dǎo)體、led、mems等領(lǐng)域的光刻膠灰化、打殘膠、氮化物刻蝕、表面清潔等應(yīng)用的批次處理。
更新時(shí)間:2026-01-07
美國(guó)TED 高分辨離子濺射儀
208hr高分辨離子濺射儀-適用于場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡，可選擇多種鍍膜材料，精確的膜厚控制，樣品臺(tái)控制靈活，多個(gè)樣品座，樣品室?guī)缀慰勺儯瑢挿秶牟僮鲏毫?，緊湊、現(xiàn)代的桌上型設(shè)計(jì)，操作容易。
更新時(shí)間:2026-01-07
全自動(dòng)上側(cè)或后側(cè)光刻機(jī)
oai 6000 fsa 全自動(dòng)上側(cè)或后側(cè)光刻機(jī),具有完全自動(dòng)化的亞微米分辨率的頂側(cè)或背側(cè)對(duì)齊，提供無與倫比的性價(jià)比。
更新時(shí)間:2026-01-07
德國(guó)KSI 四探頭超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)
ksi v-quattro四探頭超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)，四探頭系統(tǒng)，同時(shí)使用4只換能器
更新時(shí)間:2026-01-07
德國(guó) KSI 八探頭大型超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)
ksi v-octo 八探頭大型超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)，該系統(tǒng)同時(shí)使用8只換能器，能最大限度的確保快速圖像采集和高效能。
更新時(shí)間:2026-01-07
KSI 單探頭多用途超聲波掃描顯微鏡
ksi v1000e 單探頭多用途超聲波掃描顯微鏡，用于研發(fā)和生產(chǎn)部門檢測(cè)特大件樣品
更新時(shí)間:2026-01-07
德國(guó)KSI 單探頭超聲波掃描顯微鏡
ksi v700e 單探頭超聲波掃描顯微鏡，用于檢測(cè)大件樣品
更新時(shí)間:2026-01-07
德國(guó) KSI 單探頭多用途超聲波掃描顯微鏡
ksi v400e 單探頭多用途超聲波掃描顯微鏡，是實(shí)驗(yàn)室、研發(fā)和工業(yè)生產(chǎn)線主流機(jī)型。
更新時(shí)間:2026-01-07
德國(guó) KSI 單探頭超聲波掃描顯微鏡
ksi v300e 單探頭超聲波掃描顯微鏡，掃描機(jī)械機(jī)構(gòu)
更新時(shí)間:2026-01-07
日本JEOL熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡
日本jeol熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7900f，它繼承了上一代廣獲好評(píng)的性能如高的空間分辨率、高穩(wěn)定性、多種功能等的同時(shí)，操作性能大簡(jiǎn)單化。該設(shè)備不依賴操作者的技能，始終能夠發(fā)揮其佳性能。
更新時(shí)間:2026-01-07
型紫外單面光刻機(jī)
ure-2000/25 型紫外單面光刻機(jī)，曝光面積：4 英寸,分辨力：1 μm（膠厚 2 μm的正膠）,對(duì)準(zhǔn)精度：± 0.8μm
更新時(shí)間:2026-01-07
紫外雙面光刻機(jī)型紫外單面光刻機(jī)
ure-2000s/25a 型紫外雙面光刻機(jī)，曝光面積：6 英寸，分辨力：1 μm
更新時(shí)間:2026-01-07
紫外雙面光刻機(jī)
ure-2000s/25 型紫外雙面光刻機(jī)，曝光面積：4 英寸，正面對(duì)準(zhǔn)采用雙目雙視場(chǎng)對(duì)準(zhǔn)顯微鏡：既可通過目鏡目視對(duì)準(zhǔn)，也可通過 ccd+顯示器對(duì)準(zhǔn)，光學(xué)合像，光學(xué)大倍數(shù) 400 倍，光學(xué)+電子放大 800 倍
更新時(shí)間:2026-01-07
紫外雙面光刻機(jī)
ure-2000s/b 型紫外雙面光刻機(jī),曝光面積：6 英寸，對(duì)準(zhǔn)精度：± 2μm （雙面,片厚 0.8mm），± 0.8μm （單面）
更新時(shí)間:2026-01-07
紫外雙面光刻機(jī)
ure-2000s/a8 型紫外雙面光刻機(jī), 曝光面積：8 英寸, 曝光波長(zhǎng)：365nm： 15mw/cm，405nm：15-30mw/cm2, 對(duì)準(zhǔn)精度：±2 μm （雙面,片厚 0.8mm）±0.8 μm （單面）
更新時(shí)間:2026-01-07
雙面光刻機(jī)
ure-2000s/25s 型雙面光刻機(jī)，曝光面積：4 英寸（或 6 英寸），正面對(duì)準(zhǔn)采用雙目雙視場(chǎng)對(duì)準(zhǔn)顯微鏡：既可通過目鏡目視對(duì)準(zhǔn)，也可通過 ccd+顯示器對(duì)準(zhǔn)，光學(xué)合像，光學(xué)大倍數(shù) 400 倍，光學(xué)+電子放大 800 倍
更新時(shí)間:2026-01-07
紫外雙面光刻機(jī)
ure-2000s/35l（a）型紫外雙面光刻機(jī)，曝光面積：6 英寸，正面對(duì)準(zhǔn)采用雙目雙視場(chǎng)對(duì)準(zhǔn)顯微鏡：既可通過目鏡目視對(duì)準(zhǔn)，也可通過 ccd+顯示器對(duì)準(zhǔn)，光學(xué)合像，光學(xué)大倍數(shù) 400 倍，光學(xué)+電子放大 800 倍
更新時(shí)間:2026-01-07
雙面光刻機(jī)
ure-2000s/35l（b）型雙面光刻機(jī), 曝光面積：4 英寸, 正面對(duì)準(zhǔn)采用雙目雙視場(chǎng)對(duì)準(zhǔn)顯微鏡：既可通過目鏡目視對(duì)準(zhǔn)，也可通過 ccd+顯示器對(duì)準(zhǔn)，光學(xué)合像，光學(xué) 大倍數(shù) 400 倍，光學(xué)+電子放大 800 倍
更新時(shí)間:2026-01-07
美國(guó)OAI紫外光刻機(jī)
oai model 212型桌面掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng), 輸出光譜范圍:hg: g(436nm),h(405nm),i(365nm)和310nm,hg-xe: 260 nm和220 nm或led:365 nm、395 nm和405 nm
更新時(shí)間:2026-01-07
美國(guó)OAI掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)
oai model 800e 型掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，各種光譜范圍選項(xiàng):hg燈:g(436nm),h(405nm)， i(365nm)和310nm線，hg-xe燈:260nm和220nm
更新時(shí)間:2026-01-07
美國(guó)OAI紫外光刻機(jī)
oai 掩膜光刻機(jī) model 6000型，高吞吐量180 wph，靈活處理基板從2“平方到12”平方
更新時(shí)間:2026-01-07
美國(guó)OAI紫外光刻機(jī)
oai的面板掩模光刻機(jī) model 6020s, 用于foplp型號(hào)6020s -半自動(dòng)化或自動(dòng)化,實(shí)現(xiàn)500mm x 500mm 晶圓尺寸的fo-plp加工.
更新時(shí)間:2026-01-07
德國(guó) Sentech 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
entech rie si591 平板電容式反應(yīng)離子刻蝕機(jī)，兼容多種氯基或氟基刻蝕工藝；小型化和高度模塊化；sentech控制軟件
更新時(shí)間:2026-01-07
德國(guó) Sentech 等離子體 ICP 干法刻蝕機(jī)
sentech si 500 電感耦合等離子體icp干法刻蝕系統(tǒng)，感應(yīng)耦合等離子刻蝕機(jī)臺(tái)，低損傷納米結(jié)構(gòu)刻蝕，高速率刻蝕，內(nèi)置icp等離子源，動(dòng)態(tài)溫控。
更新時(shí)間:2026-01-07
英國(guó)HHV 適合手套箱集成的真空鍍膜系統(tǒng)
英國(guó)hhv auto500 gb 適合手套箱集成的真空鍍膜系統(tǒng)，是門設(shè)計(jì)用于手套箱集成使用的鍍膜設(shè)備，滿足氧氣或水汽敏感的材料鍍膜的應(yīng)用要求。該系統(tǒng)配了一個(gè)特殊結(jié)構(gòu)的真空腔室，可直接與市場(chǎng)上大多數(shù)手套箱集成到一起。真空腔室的門可豎直滑動(dòng)開關(guān)，嵌入手套箱內(nèi)，并占用很少的手套箱空間；其后門是鉸鏈扇式開關(guān)，能在不影響手套箱內(nèi)氣氛的情況下輕松維護(hù)腔室內(nèi)工藝組件。
更新時(shí)間:2026-01-07

最新產(chǎn)品

熱門儀器： 液相色譜儀 氣相色譜儀 原子熒光光譜儀 可見分光光度計(jì) 液質(zhì)聯(lián)用儀 壓力試驗(yàn)機(jī) 酸度計(jì)（PH計(jì)） 離心機(jī) 高速離心機(jī) 冷凍離心機(jī) 生物顯微鏡 金相顯微鏡 標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì) 生物試劑