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支持膜產(chǎn)品及廠家

微柵膜

微柵支持膜是在支持膜上特意制作出微孔。微孔形狀各異,大小從0.25μm到5μm不等，噴碳后微孔上沒有殘留膜層，為透孔。微柵膜非常堅(jiān)固,可以支撐各種樣品。從大的晶體樣品到小的病毒顆粒,均可使用微柵支持膜。這些樣品搭載在微柵孔上，如病毒或細(xì)菌顆粒一般會(huì)粘著在微柵孔的邊緣,因此沒有基底物質(zhì)的干擾；一維納米材料可搭載在微孔兩端，納米顆粒在微孔邊緣，是高倍電鏡理想的觀察位置，從而得到納米結(jié)構(gòu)的高分辨像，更便于微束分析或獲得單顆粒電子衍射像。膜總厚度:15-20nm

更新時(shí)間:2026-01-05

該公司產(chǎn)品分類：北京達(dá)昱科儀科技有限公司

11023碳支持膜

支持膜通常是在銅網(wǎng)上覆蓋一層有機(jī)膜，然后噴碳，樣品搭載在碳膜上，以便在透射電鏡上觀察。支持膜只要有微柵，超薄碳膜，碳支持膜，純碳膜，幾乎用于所有有機(jī)、無機(jī)粉末樣品線狀、帶狀、管狀和切片樣品的透射電鏡觀察

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超薄微柵膜

超薄微柵膜是在微柵的基礎(chǔ)上，疊加了一層很薄的碳膜，防止5nm以下樣品從微孔中漏出。

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SOTEM/SEM用氧化硅薄膜窗口

氧化硅與氮化硅薄膜窗格比較：相比氮化硅薄膜，氧化硅薄膜更適合用于含氮樣本。在eds研究中，如基片薄膜含氮，則會(huì)與樣本造成混淆。

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該公司產(chǎn)品分類：上海昭沅儀器設(shè)備有限公司

SNTEM氮化硅窗口透射電鏡用薄膜窗口

與x射線用氮化硅窗口類似，透射電鏡（tem）用氮化硅薄膜窗口也采用低應(yīng)力氮化硅薄膜基底。但整體尺度更小，適合tem裝樣的要求。窗口有單窗口和多窗口陣列等不同規(guī)格。同時(shí)risun也定制多孔氮化硅薄膜窗口。

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SNTEM/SEM用氮化硅薄膜窗口

氮化硅薄膜窗特點(diǎn)• 低應(yīng)力的8, 15 , 50nm厚的氮化硅支撐膜：50nm厚的薄膜具有最大的視野范圍；8nm和15nm厚的無孔氮化硅薄膜適用于tem超高分辨率的應(yīng)用• 氮化硅支撐膜：低應(yīng)力的lpcvd非化學(xué)計(jì)量比氮化硅薄膜，良好的平整度、絕緣性和疏水性• 良好的化學(xué)穩(wěn)定性：圖像分辨率和機(jī)械強(qiáng)度達(dá)到理想的平衡；• 均勻性：減少了不同區(qū)域的不均勻性；

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SNTEM用多孔氮化硅薄膜窗口

多孔氮化硅薄膜窗口特點(diǎn) ● 相對(duì)大的實(shí)驗(yàn)區(qū)域；● 增加了薄膜的彈性；● 孔的尺寸適合實(shí)驗(yàn)要求；● 薄膜邊緣有25μm寬度是無孔的；多孔氮化硅薄膜窗參數(shù)：框架大小：φ3mm；框架厚度：200μm；薄膜厚度：200nm；窗口大?。?.5x0.5mm；孔徑：2.5μm；孔間距：4.5μm；孔排列：100x100；

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SNTEM親水性/疏水性氮化硅薄膜窗口

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氮化硅薄膜窗口-X射線用

氮化硅薄膜窗隨著各種軟x射線光源的出現(xiàn)，如同步輻射、激光等離子體等高亮度的x射線源的發(fā)展，軟x射線顯微成像技術(shù)在全世界范圍內(nèi)得到迅速發(fā)展。在此領(lǐng)域，需要應(yīng)用各種尺寸和厚度的氮化硅薄膜窗口。

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氧化硅薄膜窗-X射線用

氧化硅薄膜窗：risun推出新型二氧化硅薄膜窗系列產(chǎn)品。與氮化硅相比，氧化硅更易遭受化學(xué)侵蝕，且堅(jiān)固性更差。但在x-射線顯微鏡中，由于沒有n原子存在而倍受青睞。

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