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共找到11條 靶材 產(chǎn)品
高純硅靶材 硅顆粒 氧化硅靶材 氮化硅靶材
名稱: 硅靶材/si target純度: 99.999%尺寸: φ50.8*3,φ76.2*3 可定制
高純硒靶材 硒顆粒 碲化鎘靶材 硒化銻靶材
名稱: 硒靶材/se target純度: 99.99%尺寸: φ50.8*3,φ76.2*3 可定制
高純鈧靶材 鈧顆粒 氧化鈧靶材 Sc target
名稱: 鈧塊材/sc target純度: 99.9%尺寸: 1-10cm 可定制
高純銻靶材 銻顆粒 碲化銻靶材 氧化銻顆粒
名稱: 銻靶材/sb target純度: 99.99%尺寸: φ50.8*3,φ76.2*3 可定制
高純銠靶材 Rh target 鉑銠合金靶材
名稱: 銠靶材/rh target 純度99.99%由于貴金屬價格變動較大,請咨詢客服,僅當(dāng)日報價有效尺寸: φ50.8*3,φ76.2*3 可定制
高純度金靶材磁控濺射儀
不同的蒸發(fā)速率下沉積300nm的au薄膜,研究蒸發(fā)速率對薄膜表面形貌和性能的影響。隨著蒸發(fā)速率的提高,薄膜的結(jié)構(gòu)變得致密,晶粒尺寸和表面粗糙度減小。高純度金靶材磁控濺射儀kt-z1650pvd在較短時
銀靶材離子濺射儀
銀是一種柔軟,有光澤的元素,屬于元素周期表中的金屬過渡族。它的熔點為961.78℃,密度為10.49g /cm3.銀的理化性質(zhì)均較為穩(wěn)定,導(dǎo)熱、導(dǎo)電性能很好,質(zhì)軟,富延展性。銀的理化性質(zhì)均較為穩(wěn)定,導(dǎo)
銅靶材鍍膜濺射儀
以銅 (cu) 濺射靶材為例.在制備銅濺射靶時,不可避免地會引入硫、鉛等其他雜質(zhì)含量.微量的硫可以防止熱加工時晶粒尺寸增大或產(chǎn)生微裂紋;但當(dāng)硫元素含量高于18 ppm時,會出現(xiàn)微裂紋;隨著兩種雜質(zhì)元素
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